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该系列标样既可用于扫描电镜，也可用于光学显微镜（包括普通光学显微镜和激光共焦显微镜）的放大倍率校准，使用了单晶硅基片和透明石英玻璃基片两种基质材料，并使用相同的工艺在两种基质上分别制作了相同的线距结构。标准样品基本结构的掩模板是使用紫外光刻技术制作的，即标准样品上的40μm、20μm、10μm、5μm线距结构使用的是紫外光刻。
1. 均匀性：40μm、20μm、10μm和5μm的线距结构的相对标准偏差分别为<0.15％、<0.25％、<0.3％、<0.5％和<1％；片间线距的均匀性偏差分别为：<0.39％、<0.19％、<0.21％和<0.19％。
2.形貌特征：总体为5mm×5mm×0.5mm（长×宽×厚）大小的小方块。最外框边长约为2mm，内框里面4个象限上分别为40μm、20μm、10μm、5μm的图形，内框的中部“回”字形的方框，大框的边长约为160μm，小框边长约50μm，线距为5μm的平行线条。可用于在较大放大倍率下图像的聚集和像散调整。可在10×～100,000×放大倍率范围的校准，而把40μm、20μm和10μm的线距设计成方格形，是为了在对放大倍率进行准确校准的同时，可以对图像的畸变、像散等进行校验， 5μm的线距结构也同时具有X、Y两个方向的平行线条，是为了方便同时对X、Y两个方向进行放大倍率的校准而不必机械旋转标准器。
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